標(biāo)題：3000 °C高溫石墨爐

產(chǎn)品概述

LHT 3000 °C高溫石墨爐系列的特別之處在于設(shè)計緊湊，是研發(fā)環(huán)境中實驗室的理想工具。 實驗室爐的圓柱形可用空間被加熱元件和隔熱材料包圍。加熱室與水冷容器融為一體。由于體積小，LHT 非常適合用于小型樣品，而且所需的操作空間也很小。 系統(tǒng)由一個框架平臺支撐，該平臺支撐著加熱爐和裝有軟件控制裝置的電子柜。支撐平臺上裝有腳輪，可使整個系統(tǒng)輕松移動。對于大學(xué)和工業(yè)研究實驗室來說，LHT 系列非常適合此類操作區(qū)域。 該系統(tǒng)整體尺寸小，操作簡單，成本效益高，在溫度均勻性或氣氛質(zhì)量方面不會有任何性能損失。此外，圓柱形設(shè)計適合超壓熱處理工藝。根據(jù)要求，該系統(tǒng)可配備適當(dāng)?shù)逆i定裝置和所有必要設(shè)備，用于安全超壓操作，最高壓力可達(dá) 100 巴。 金屬 LHT 型基于鎢或鉬制成的加熱元件和輻射屏蔽，最高溫度分別為 2200 °C 和 1600 °C。輻射罩的作用是將加熱元件的熱量與水冷容器隔開。金屬 LHT 系統(tǒng)可提供最高的大氣純度和優(yōu)良的最終真空度。渦輪分子泵與前置泵相結(jié)合，可使工作真空達(dá)到高真空區(qū)域。根據(jù)要求，還可提供超高真空配置。

應(yīng)用實例：

金屬注塑成型

標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)：

▏ 緊湊設(shè)計貼合實驗室應(yīng)用需求

▏ 優(yōu)良真空度

▏ 高真空度可能 低于5x10-6 mbar

▏ 分壓范圍10-1000mbar

▏ 高壓最高至100bar

▏ 石墨制加熱元件最高達(dá)3000°C

▏ 可提供氫分壓控制

▏ 粉末樣品抽真空操作平穩(wěn)可控

▏ 數(shù)據(jù)記錄，用于質(zhì)量管理

作用原理：

LHT 3000 °C高溫石墨爐內(nèi)部：1.水冷爐膛2.加熱元件3.頂蓋，手動操作4.熱電偶5.頂部的熱輻射屏蔽6.爐體輻射屏蔽7.電極LHT 型由于體積小，因此采用單個壁爐加熱器加熱。內(nèi)部溫度曲線優(yōu)于 ± 10 K。這種均勻性是通過精心設(shè)計和定位加熱元件實現(xiàn)的。 LHTG 采用石墨加熱元件和絕緣材料。如果需要 3000 °C 的最高溫度，則必須專門設(shè)計隔熱層厚度和石墨隔熱層，以承受超高溫度。安裝的功率也必須適合達(dá)到 3000 °C 的高加熱速率。加熱盒由水冷容器包圍。加熱爐配有所有必要的法蘭、熱電偶、電氣連接和高溫計。為了安全起見，容器為雙壁水冷式。電氣連接和電纜也是水冷卻的。 軟件操作可選擇手動或自動控制。對于手動版本，所有閥門和泵都通過用戶面板上的簡單按鈕進(jìn)行操作，并使用轉(zhuǎn)子流量計調(diào)節(jié)氣體流量。自動軟件則通過觸摸屏界面進(jìn)行操作。質(zhì)量流量控制器用于調(diào)節(jié)氣體流量。手動和自動操作均可進(jìn)行數(shù)據(jù)記錄。

技術(shù)參數(shù)：

LHTG 100-200/22-1G

保留技術(shù)變更和出錯的權(quán)利